北京驰光铭图

国产高性能计算光刻的领航者

致力于提供高性能、全流程的国产化计算光刻系统解决方案，打破海外技术垄断，保障国家集成电路产业链自主可控。

核心价值主张

认真把一件重要而困难的小事做出大价值

极致性能

核心算法计算效率较传统方法提升3-4个数量级，性能指标比肩甚至超越海外对标软件。

自底向上

坚持从底层物理建模与数学求解出发，构建具备极强通用性与前瞻性的算法框架。

全栈自主

拥有全部国内自主知识产权，源自顶尖团队二十年计算光学理论积淀。

产品体系

制造型EDA套件

Overture 光刻工艺严格仿真套件

产品定义： 针对投影光刻系统开发的严格物理仿真模拟软件，提供光刻成像的全流程“数字孪生”。
核心功能：
– 全流程正向仿真 (RST)：基于严格物理模型，精确模拟掩模光学成像、三维掩模衍射场及光刻胶反应全过程。
– 用户自定义分析 (UDA)：支持多维参数扫描，定量分析NA、Sigma、叠层厚度等因素对关键尺寸（CD）的影响。
– 高精度建模：支持厚/薄掩模模型、矢量光学模型及化学放大胶模型。
性能指标： 综合性能接近国际“金标准”软件，PAC对标误差控制在千分之一级别。

Cadenza 光刻优化套件

产品定义： 针对先进光刻流程的全版图掩模修正工具，旨在显著提升芯片制造良率。
核心功能：
– 光学邻近效应校正 (OPC)：实现规则化与模型化掩模修正，大幅降低掩模复杂度与制造成本。
– 逆向光刻技术 (ILT)：采用CPU/GPU-CUDA并行加速，攻克全版图像素级优化及拼接缺陷难题。
– 联合优化 (SMO)：实现光源与掩模的协同优化，有效解决工艺窗口缺失问题。
性能突破： OPC建模运行时间显著优于同类商用产品，在GPU加速下具备数量级优势。

核心技术

遵循第一性原理的“自底向上”路径，从物理本质出发解决先进制程中的“元问题”